Měřicí metoda:
Magneto-optická Kerrova mikroskopie pro pozorování magnetických domén na površích materiálů, domény jsou studovány při pokojové teplotě ve statických magnetických polích.
Přístrojové vybavení:
Optický mikroskop Zeiss, Xe lampa, optické komponenty (polarizátor, analyzátor, čočky, filtry), objektivy s různým zvětšením, CCD kamera Hamamatsu, magnety generující magnetické pole v rovině vzorku a kolmo na rovinu vzorku, napájecí zdroj Kepco, software Kerrlab, antivibrační stůl, CMOS kamera, dvě indikační granátové vrstvy na transparentním substrátu a se zrcadlem na zpětné straně (magneto-optické indikační vrstvy).
Zkoumané materiály:
Pevné feromagnetické a ferimagnetické materiály (nutná nízká povrchová drsnost) – tenké vrstvy, multivrstvy, amorfní a nanokrystalické materiály na bázi Fe, Co a Ni .
Zkoumané vlastnosti materiálů:
- zobrazení povrchových magnetických domén a stavů magnetizace v polárním, longitudinálním a transverzálním Kerrově jevu
- možnost pozorování domén v lokálních oblastech díky fokusaci svazku do různých míst na vzorku
- měření magneto-optických hysterezních smyček ze změn optického kontrastu na povrchu vzorku při měnícím se magnetickém poli
- pozorování magnetických domén na drsných površích s využitím magneto-optické metody indikačních vrstev (MOIF)
http://www.evico-magnetics.de/Standard.html
http://www.evico-magnetics.de/microscope.html
Tab. 1 Objektivy EC Epiplan-Neofluar Pol a jejich parametry
Objektiv zvětšení x/numerická apertura | Velikost zorného pole [mm] | Ideální rozlišení [nm] |
---|---|---|
2,5x/0,06 | 3,600 x 2,720 | 6100 |
10x/0,25 | 0,900 x 0,680 | 1464 |
20x/0,50 | 0,450 x 0,340 | 732 |
50x/0,80 | 0,180 x 0,136 | 457 |
100x/0,90 | 0,090 x 0,068 | 406 |
Tab. 2 Používané magnety
Magnetické pole generované rovnoběžně s povrchem vzorku | ||
---|---|---|
Vzduchová cívka, Velikost mezery 38 mm |
Hmax = 32 kA/m | I = 4 A |
Pólové nadstavce na menší pole Vzdálenost mezi póly 25 mm |
Hmax = 280 kA/m | |
Pólové nadstavce na větší pole Vzdálenost mezi póly 12,5 mm |
Hmax = 480 kA/m | |
Magnetické pole generované kolmo na povrch vzorku | ||
Válcově symetrický magnet | Hmax = 288 kA/m | I = 4 A |